אלקטרונים כימיקלים G4 פוספורית חומצה (Semiconductor Wet Chemical)

G4 Phosphoric Acid היא חומצה אי-אורגנית חלשה במיוחד -גבוהה-, משוכללת במיוחד עבור ייצור פרוסות מוליכים למחצה מתקדמים וייצור מיקרו-אלקטרוניקה. המוצר מיוצר באמצעות טיהור-רב-שלבי, סינון-עדין במיוחד ותהליכי מילוי נקיים-חדרים מסוג Class 1000, המוצר כולל יוני מתכת נמוכים במיוחד, זיהומים אניונים ומיקרו-חלקיקים, תואם באופן מלא לתקני מוליכים למחצה בינלאומיים מחמירים SEMI G4.

כימיקל זה בעל ביצועי תחריט סלקטיביים מצוינים עבור סיליקון ניטריד, סרטים דקים מאלומיניום וחומרים דיאלקטריים ספציפיים, עם קצב תחריט יציב ויכולת שליטה מעולה בתהליך. הוא גורם נזק מינימלי למצעי סיליקון ושכבות תחמוצת, מסיר ביעילות שאריות מזהמים על פני השטח ועומד בדרישות ניקיון- גבוהות במיוחד עבור תהליכים מתקדמים של פרוסות. בקרת טומאה קפדנית מבטלת סיכוני מיקרו-לפגמים, ומבטיחה תשואה גבוהה ופעולה יציבה לייצור מוליכים למחצה-בדיוק גבוה.

הוֹפָעָה:נוזל צמיג חסר צבע, שקוף, סירופ, חסר ריח

פֶּתֶק:כל נתוני הבדיקה מבוססים על אצווה-תעודה ספציפית (תעודת ניתוח).

תחריט סרטי סיליקון ניטריד ואלומיניום:כימיקל לחריטה רטובה ליבה לתהליכים קדמיים של מוליכים למחצה-, המשמש לחריטה מדויקת של סרטים דקים Si₃N₄, שערי מתכת אלומיניום ושכבות רפידות אלומיניום. הוא כולל סלקטיביות תחריט מעולה, מגן ביעילות על תחמוצת סיליקון ומצע סיליקון תוך הבטחת מורפולוגיה אחידה ויציבה של תחריט.

ניקוי משטחי רקיק מדויק:מסיר מיקרו-חלקיקים, שאריות של זיהומים אנאורגניים ומזהמים על פני השטח שנוצרו במהלך תהליכי תחריט ותצהיר. מאפיין נמוך- מונע זיהום משני, שומר על ניקיון משטח- גבוה במיוחד של פרוסות לתהליכי ליטוגרפיה ותצהיר מתקדמים.

תרכובת תמיסת רטובה:משמש להכנת פתרונות תחריט וניקוי מעורבים-בטוהר גבוה עבור תהליכים מיוחדים של מוליכים למחצה, התואמים לדרישות הייצור של ננו-ברמת דיוק גבוהה-ננו של מעגלים משולבים.

MEMS ואריזת מוליכים למחצה מתקדמים:מיושם עבור מיקרו-תחריט וטיפול פני השטח של מכשירי MEMS, חיישני מיקרו- ומבני אריזת שבבים מתקדמים, מה שמבטיח הגדרת דפוס מדויקת וביצועי מכשיר יציבים.

סוג אריזה:תוף אטום HDPE נקי בדרגה-קורוזיה-, אריזה ייעודית של חומצה זרחתית בטוהר גבוה-

מפרט נפוץ:25 ק"ג / 30 ק"ג תוף קטן, 1000 ק"ג עמיד בפני קורוזיה- IBC שקית

סביבת מילוי:חדר נקי Class 1000, מערכת מילוי טהורה במיוחד-סגורה לחלוטין, בקרה קפדנית על הכנסת חלקיקים וטומאה כדי למנוע זיהום משני

תקן איטום:מבנה אטום-איטום-גבוה, נגד-זיהום ואנטי-הידרדרות, מה שמבטיח יציבות טוהר-לטווח ארוך

● אחסן במחסן כימיקלים ייעודי קריר, יבש ומאוורר, שמור אטום היטב, הרחק מאור שמש ישיר, טמפרטורה גבוהה ומקורות חום.

● לבודד מחומרים אלקליים, חומרים מחמצנים חזקים, אבקות מתכת וחומרים לא תואמים מאכלים כדי למנוע תגובות כימיות ופירוק טוהר.

● הימנע ממיקום פתוח-לטווח ארוך ומספיגת לחות כדי למנוע העשרת זיהומים ושינוי בביצועים.

● חיי מדף:12 חודשים בתנאי אחסון אטומים סטנדרטיים

● חומצה זרחתית היא קורוזיבית בינונית והיגרוסקופית. המפעילים חייבים ללבוש PPE מלא סטנדרטי: כפפות עמידות לחומצה-, משקפי בטיחות כימיים, סינר עמיד בפני קורוזיה- ובגדי עבודה מגנים.

● כל פעולות הדילול, הדגימה והטיפול חייבות להתבצע במנדף מקצועי כדי למנוע שאיפה של ערפל ומגע ישיר עם העור והריריות.

● במהלך הדילול, הוסף לאט חומצה זרחתית למים מפושטים; לעולם אל תוסיף מים לחומצה זרחתית מרוכזת כדי למנוע התזות ופציעה כימית.

● במקרה של התזת נוזלים, מגע בעור או דליפה, בצעו ניקוי חירום וסילוק מיד בהתאם לנוהלי ההפעלה הסטנדרטיים.

● עיין במסמך SDS הרשמי למידע מקיף על סכנות, תקנות תחבורה ואמצעי עזרה ראשונה- מפורטים.

כל אצווה של חומצה זרחתית G4 מיוצרת, מטוהרת ונבדקת בהתאם לסטנדרטים הבינלאומיים של תעשיית המוליכים למחצה SEMI G4. כל משלוח מצויד ב-CoA רשמי-ספציפי. כל תהליך הייצור והמילוי מאמצים בקרת זיהום- נקייה קפדנית וניהול טוהר- גבוה, המבטיחים זיהומים נמוכים במיוחד, עקביות אצווה יציבה ויכולת הסתגלות גבוהה לתהליכים, תוך עמידה מלאה בדרישות התהליך הרטוב המחמירות של ייצור מוליכים למחצה מתקדמים.

תגיות פופולריות: כימיקלים אלקטרוניים g4 חומצה זרחתית (כימיקלים רטוב מוליכים למחצה), סין כימיקלים אלקטרוניים g4 חומצה זרחתית (כימיקלים רטוב מוליכים למחצה) יצרנים, ספקים, מפעלים