Electronic Chemicals G4 Hydrofluoric Acid (Semiconductor Wet Chemical)

G4 Hydrofluoric Acid היא חומצה אי-אורגנית המבוססת על -טוהר גבוה-של פלואור, המעודנת באופן בלעדי לייצור פרוסות מוליכים למחצה מתקדמים וייצור מיקרו-אלקטרוניקה. תוך שימוש בטכנולוגיית מילוי חדרים נקיים-שלבי-, סינון-ללא קורוזיה- וטכנולוגיית מילוי חדרים נקיים-, המוצר כולל מתכות נמוכות במיוחד, זיהומים אנוניים ומיקרו-חלקיקים, ועומד במלואו בתקנים הבינלאומיים המחמירים של SEMI G4.

בתור כימיקל לחריט סלקטיבי ליבה וניקוי רטוב בתהליכים קדמיים של-מוליכים למחצה, הוא מציג סלקטיביות חריטה מצוינת עבור שכבות תחמוצת סיליקון תוך גרימת נזק מינימלי למצעי סיליקון ולסרטי ניטריד. בקרת זיהומים קפדנית מונעת ביעילות מיקרו-זיהום ופגמי רקיק, ומבטיחה תשואה גבוהה ויציבות-לטווח ארוך עבור תהליכי ייצור שבבים מתקדמים.

הוֹפָעָה:נוזל נדיף חסר צבע, שקוף ושקוף

פֶּתֶק:כל נתוני הבדיקה מבוססים על אצווה-תעודה ספציפית (תעודת ניתוח).

הסרת תחמוצת טבעית של רקיק:הסר באופן סלקטיבי תחמוצת סיליקון מקורית ומזהמים שיוריים של תחמוצת על משטחי פרוסות סיליקון מבלי לפגוע במצע הסיליקון, תוך אופטימיזציה של מצב פני השטח עבור שקיעה, ליטוגרפיה ותהליכי תחריט.

תחריט סלקטיבי מדויק:משמש לחריטה עדינה של שכבות דיאלקטריות SiO₂, שכבות תחמוצת שער ושכבות סרט דק בייצור IC, כולל אחידות תחריט גבוהה ויכולת שליטה מעולה בתהליך כדי להבטיח העברת דפוס מדויק.

תהליך ניקוי רטוב של RCA:משמש כמרכיב מפתח בפתרונות ניקוי RCA שהשתנו כדי לסלק חלקיקים מיקרו-, זיהומים יוניים ושאריות אורגניות על משטחי פרוסות, ולשפר את הניקיון הכללי של הפרוסות.

אריזה מתקדמת ותהליך MEMS:מיושם עבור טיפול משטח, מיקרו-תחריט והסרת זיהומים של מכשירי MEMS, חיישני מוליכים למחצה ורכיבי אריזת שבבים מתקדמים, תוך התאמה לדרישות ייצור מיקרואלקטרוניקה-בדיוק גבוה.

סוג אריזה:תוף אטום HDPE-עמיד בפני קורוזיה-מרופד/נקי-, אריזה כימית HF ייעודית

מפרט נפוץ:25 ק"ג / 30 ק"ג תוף קטן, 1000 ק"ג עמיד בפני קורוזיה- IBC שקית

סביבת מילוי:חדר נקי Class 1000, מערכת ייצור ומילוי ללא קורוזיה מלאה-, אפס זיהום משני

תקן איטום:מבנה מיוחד נגד-נדיף ואנטי{1}}דליפות, מונע בקפדנות אובדן נדיף וזיהום חיצוני

● אחסן במחסן כימיקלים ייעודי קריר, יבש ומאוורר, שמור אטום היטב, הרחק מאור שמש ישיר, טמפרטורה גבוהה ומקורות חום.

● יש לבודד בקפדנות ממוצרי זכוכית, חומרים אלקליים, חומרים מחמצנים וחומרי מתכת כדי למנוע קורוזיה כימית ותגובה לא חוקית.

● אסר אחסון פתוח לטווח ארוך- כדי למנוע הידרדרות נדיפה וזיהום ספיגת לחות.

● חיי מדף:12 חודשים בתנאי אחסון אטומים סטנדרטיים

● חומצה הידרופלואורית היא מאוד קורוזיבית ונדיפה. מפעילים חייבים ללבוש PPE תומך מקצועי: כפפות עמידות-לפלוריד, משקפי מגן כימיים סגורים לחלוטין, סינר עמיד בפני קורוזיה וביגוד מגן.

● כל הפעולות חייבות להתבצע במנדפים מקצועיים; הימנע משאיפת גז נדיף ומגע ישיר עם העור, העיניים והריריות.

● במהלך דילול ומינון, הוסיפו לאט חומצה למים מופחתים; לעולם אל תוסיף מים לחומצה הידרופלואורית מרוכזת כדי למנוע התזות ותאונות בטיחות.

● אמצעי עזרה ראשונה- מיוחדים יינקטו מיד במקרה של מגע או דליפה בשוגג, ופעלו בהתאם להנחיות לסילוק חירום של SDS.

● לסיווג מלא של סיכונים, תקנות תחבורה ונהלי עזרה ראשונה-, עיין במסמך SDS הרשמי.

כל אצווה של G4 Hydrofluoric Acid מיוצרת, מטוהרת ונבדקת בהתאם לסטנדרטים הבינלאומיים של SEMI G4 מוליכים למחצה. לכל משלוח מצורף תעודת אישור רשמי- ספציפית. כל תהליך הייצור והמילוי מאמצים בקרת זיהום- נקייה ועמידה בפני קורוזיה וניהול תהליכים עמידים בפני קורוזיה, המבטיחים טוהר- גבוה במיוחד ואיכות יציבה כדי לעמוד בדרישות המחמירות של תהליכי ייצור רטובים מתקדמים של מוליכים למחצה.

תגיות פופולריות: כימיקלים אלקטרוניים g4 חומצה הידרופלואורית (כימיקלים רטובים מוליכים למחצה), סין כימיקלים אלקטרוניים g4 חומצה הידרופלואורית (כימיקלים רטובים מוליכים למחצה) יצרנים, ספקים, מפעלים